电子级四氟化碳

发布时间: 2024-11-06 10:57

电子级四氟化碳（CF4）是目前微电子工业中用量最大的等离子蚀刻气体，也可以广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅，磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻，在电子器件表面清洗，太阳能电池的生产，铝合金门窗制造、激光技术、气相绝缘、低温制冷、泄漏检验剂、控制宇宙火箭姿态，印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。

商品信息

产品名称：电子级四氟化碳

纯度规格：5N5

包装：钢瓶（GB/DOT/ISO）,Y瓶（DOT）,Bundle（GB/DOT/ISO），ISO（DOT），有不同容量。

重量：30kg/32kg/300kg/320kg/480kg/7t等。

阀门型号：QF/CGA/DISS/JISS/DIN

充装系数：不大于0.7kg/L。

主要应用： 电子级四氟化碳（CF4）是目前微电子工业中用量最大的等离子蚀刻气体，也可以广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅，磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻，在电子器件表面清洗，太阳能电池的生产，铝合金门窗制造、激光技术、气相绝缘、低温制冷、泄漏检验剂、控制宇宙火箭姿态，印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。

电子级四氟化碳技术指标

项目		指标
四氟化碳（CF₄）纯度（体积分数）/10^-2	≥	99.9995
氮（N₂）含量（体积分数）/10^-6	＜	1
（氧+氩）（O₂+Ar）含量体积分数）/10^-6	＜	1
二氧化碳（CO₂）含量（体积分数）/10^-6	＜	0.5
一氧化碳（CO）含量（体积分数）/10^-6	＜	0.1
六氟化硫（SF₆）含量（体积分数）/10^-6	＜	0.1
水分（H₂O）含量（体积分数）/10^-6	＜	1
可水解氟化物（以氟离子计）含量（体积分数）/10^-6	＜	0.1
其它卤碳化合物（OHC）含量（体积分数）/10^-6	＜	0.5
总碳氢化合物（THC）含量（体积分数）/10^-6	＜	0.5
三氟化氮（NF₃）含量（体积分数）/10^-6	＜	0.5
总杂质含量(体积分数)/10^-6	≤	5
颗粒及金属杂质含量		供需双方商定
备注：
OHC(other halogen carbon compound) THC(total hydrogen carbon compound）	主要包含：C₂F₆、C₃F₈、CHF₃、CH₂F₂、CClF₃、C₂ClF₅；主要包含：CH₄、C₂H₄、C₂H₂、C₂H₆。